SK海力士量产全球最尖端321层NAND闪存
韩国半导体巨头SK海力士11月21日发布消息称,已开始量产用于存储数据的 NAND 闪存的321层产品。预计将用于面向人工智能的数据中心和“边缘AI”等领域。自2025年上半年开始交货。此前最尖端的 NAND 闪存为238层。与238层相比,321层的数据传输速度提高了12%,读取数据时的电力效率也提高10%以上。单位芯片面积的数据容量也增加59%。NAND 闪存被用于智能手机和数据中心。SK使用了4D技术,集成度比属于业界标准的3D (3维) 更高,实现了321层。SK表示:“没有发现其他公司超过300层的产品”。
—— 日经新闻
via 风向旗参考快讯 - Telegram Channel
韩国半导体巨头SK海力士11月21日发布消息称,已开始量产用于存储数据的 NAND 闪存的321层产品。预计将用于面向人工智能的数据中心和“边缘AI”等领域。自2025年上半年开始交货。此前最尖端的 NAND 闪存为238层。与238层相比,321层的数据传输速度提高了12%,读取数据时的电力效率也提高10%以上。单位芯片面积的数据容量也增加59%。NAND 闪存被用于智能手机和数据中心。SK使用了4D技术,集成度比属于业界标准的3D (3维) 更高,实现了321层。SK表示:“没有发现其他公司超过300层的产品”。
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